めっき－陽極酸化法によるナノ多孔質スピネルフェライト膜の生成と酸素還元・酸素発生電極特性
- 表面処理
- 研究論文
| 担当者 |
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| 概要 |
安価で大量生産に適した「めっき-陽極酸化法」により，ナノ多孔質スピネルフェライト膜（MxFe3-xO4，M=Ni，Co）を作製し，その酸素還元反応・酸素発生反応（ORR・OER）用電極としての特性の評価を行った。Fe-14at％Ni及びFe-16at％Coめっき膜を成膜し，これらを陽極酸化及びポスト熱処理することで，直径50 nm以下のポアを有する多孔質スピネルフェライト膜を得た。これらの試料に対し，回転リングディスク電極（RRDE）を用いて，アルカリ水溶液中におけるORR・OER特性を評価したところ，Fe-Coめっき試料上に作製した多孔質CoxFe3-xO4膜が，ORRとOERの・・・・（以下pdf参照） |
| 研究期間 |
平成31年4月～令和2年3月 |
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キーワード
- フェライト
- めっき
- 酸素発生
- 酸素還元
- 陽極酸化
