表面処理チーム

永山　富男、山本　貴代

研究部長

中村　俊博

鉄-ニッケル（以下，Fe-Ni）合金めっきとフォトリソグラフィーを組み合わせた微細構造体作製技術により，高透磁率特性や低熱膨張特性を有する次世代MEMS金属部材の製造が可能となる。これらFe-Ni合金のMEMS構造体が所望の特性を発現するためには，高精度な3次元形状と厳密な組成制御が要求される。特に，Fe-Ni合金めっき皮膜は内部応力が大きいため，一般に，添加剤にサッカリンを用いて，めっき膜の応力を減少させることが必要とされている。しかし，応力減少剤としてのサッカリンがFe-Ni合金構造体の組成及び3次元形状に及ぼす影響についてはこれまで報告されていない。そこで本研究では，低熱膨張Fe-Ni合金構造体の組成及び3次元形状の均質性に及ぼすサッカリンの影響ついて検討した。サッカリン無添加の・・・（以下pdf本文を参照）

Fabrication of the three-dimensional micro structure by Fe-Ni alloy electroforming process -Effect of saccharin concentration

平成27年4月～平成28年3月