レーザーアブレーション/ ICP発光分析法による銅合金中の微量Cd，Pb，Cr分析

研究報告
金属

担当者	金属系材料チーム南　秀明、門野純一郎材料技術グループ菊内　康正
概要	材料分析において，前処理を必要としない固体試料直接分析法が求められている。そこで，レーザーアブレーションにより発生した微粒子をICP 発光分析装置に直接導入する分析法について，銅合金試料を用いてレーザーアブレーション条件の検討を行った。その結果，レーザーアブレーション条件（照射径150μm，走査速度：50μm/s，レーザー出力：50%：2.3mJ，パルス周期：20Hz，アブレーションパターン：矩形ライン）において，分析面積：1mm 角，分析深さ：0.5μm で0.01% レベルのCd，Pb，Cr の定量ができることが分かった。また，その他の微量成分Fe，Ni，Sn の分析も可能であった。今後は，今回の検討した結果明らかになった微小面積，浅い分析深さや導電性などの試料形態を問わない利点を生かし，各種表面処理品やセラミックスなどの検討を進める。
研究期間	平成25年4月～平成26年3月

担当者

金属系材料チーム: 南　秀明、門野純一郎

材料技術グループ: 菊内　康正

概要

材料分析において，前処理を必要としない固体試料直接分析法が求められている。そこで，レーザーアブレーションにより発生した微粒子をICP 発光分析装置に直接導入する分析法について，銅合金試料を用いてレーザーアブレーション条件の検討を行った。その結果，レーザーアブレーション条件（照射径150μm，走査速度：50μm/s，レーザー出力：50%：2.3mJ，パルス周期：20Hz，アブレーションパターン：矩形ライン）において，分析面積：1mm 角，分析深さ：0.5μm で0.01% レベルのCd，Pb，Cr の定量ができることが分かった。また，その他の微量成分Fe，Ni，Sn の分析も可能であった。今後は，今回の検討した結果明らかになった微小面積，浅い分析深さや導電性などの試料形態を問わない利点を生かし，各種表面処理品やセラミックスなどの検討を進める。

研究期間

平成25年4月～平成26年3月