知的財産権 | 地方独立行政法人京都市産業技術研究所

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研究成果
知的財産権

特許

No.	出願年月日	登録番号	発明の名称	存続期間満了日	産技研発明者	産技研以外の特許権利者
No.	登録年月日	登録番号	発明の名称	存続期間満了日	産技研発明者	産技研以外の特許権利者
1	H11.4 H15.8	特許 3456635	球状炭化物鋳鉄	H31.4	西内　滋典	㈱三共合金鋳造所西内　滋典㈱岡本川野　周子
2	H13.7 H17.8	特許 3710053	ステンレス球状炭化物鋳鉄材料	H33.7	西内滋典	㈱三共合金鋳造所㈱岡本西内　滋典川野　周子山本　悟 (地独)大阪産業技術研究所
3	H16.11 H22.10	特許 4605364	耐熱性架橋ポリエチレン系樹脂発泡体及びその成形方法	H36.11	仙波　健北川　和男	三和化工㈱ポリプラスチックス㈱仙波　健北川　和男
4	H18.3 H23.11	特許 4865372	電子写真捺染方法	H38.3	北尾　好隆早水　督	㈱リコー
5	H18.2 H22.12	特許 4644610	等電点電気泳動装置	H38.2	山本　佳宏廣岡　青央	山本　佳宏廣岡　青央遠藤　真東洋紡㈱
6	H18.2 H20.10	特許 4195039	検体の前処理方法および試薬	H38.2	山本　佳宏廣岡　青央	辻本善之山本佳宏廣岡　青央東洋紡㈱
7	H18.4 H24.8	特許 5073222	炭素繊維モノフィラメント製シートとその用途	H38.4	北川　和男	㈲フクオカ機業㈱財木北川　和男
8	H19.5 H24.7	特許 5030667	ミクロフィブリル化セルロース複合樹脂及びその製造方法	H39.5	北川　和男	京都大学
9	H20.3 H24.7	特許 5047023	ISFETを用いるATPアーゼ活性の計測方法並びに計測システム	H40.3	山本　佳宏廣岡　青央	バイオエックス㈱山本　佳宏廣岡　青央
10	H21.6 H25.2	特許 5196444	無アルカリガラスを用いたセラミックス材料およびセラミックス構造体の製造方法	H41.6	佐藤　昌利高石　大吾稲田　博文	高石　大吾佐藤　昌利稲田　博文
11	H22.2 H26.2	特許 5478292	高硬度及び低熱膨張係数を有する鉄ーニッケル合金めっき皮膜の製造方法	H42.2	永山　富男中村　俊博山本　貴代	永山　富男中村　俊博山本　貴代奥野製薬工業㈱
12	H22.1 H26.2	特許 5485717	炭素繊維と絹繊維の複合繊維織物及びその製造方法	H42.1	末沢　伸夫本田　元志廣澤　覚浜中　裕	末沢　伸夫本田　元志廣澤　覚浜中　裕㈲フクオカ機業
13	H25.2 H26.3	特許 5496435	変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法、及びその樹脂組成物	H45.2	仙波　健北川　和男	京都大学 DIC㈱三菱ケミカル㈱星光PMC㈱
14	H21.12 H26.8	US8,798,512 B2	印捺物の製造方法，捺染物の製造方法，印捺装置, 及び, 捺染システム	H41.12	早水　督	長瀬産業㈱早水　督
15	H22.3 H27.2	特許 5699261	ケラチーゼおよびその製造法	H42.3	山本　佳宏廣岡　青央高阪　千尋泊　直宏和田　潤	渡部　邦彦佐々木　晃助野　彰彦山本　佳宏廣岡　青央高阪　千尋泊　直宏和田　潤
16	H24.2.14 H27.8.28	特許 5797129	セルロースナノファイバー及び樹脂を含む分散液，並びに樹脂組成物	H44.2.14	上坂　貴宏伊藤　彰浩仙波　健北川　和男	京都大学ＤＩＣ㈱三菱ケミカル㈱星光ＰＭＣ㈱
17	H21.2.20 H27.10.16	特許 5823665	めっき浴及びそれを用いためっき方法	H41.2.20	中村　俊博水谷　泰	メテック(株) (株)大和化成研究所
18	H24.3.8 H28.1.8	特許 5865128	変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む発泡体	H44.3.8	伊藤　彰浩仙波　健北川　和男	ＤＩＣ㈱星光ＰＭＣ㈱京都大学
19	H22.2.5 H28.2.12	特許 5881274	カチオン性ミクロフィブリル化植物繊維及びその製造方法	H42.2.5	伊藤　彰浩仙波　健北川　和男	京都大学日本製紙㈱王子ホールディングス㈱ＤＩＣ㈱三菱ケミカル㈱星光ＰＭＣ㈱
20	H25.11.1 H28.1.11	TWI 516221	ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法	H45.11.1	伊藤　彰浩仙波　健北川　和男	YKK㈱
21	H23.7.21 H28.5.28	特許 5938705	複合ナノ粒子およびその製造方法，釉薬ならびに金属ナノ粒子の製造方法	H43.7.21	田口肇橋田章三横山直範塩見昌平	京都大学
22	H27.7.7 H28.6.24	特許 5954759	樹脂補強用混合物，繊維強化樹脂混合物，並びに，繊維強化樹脂及びその製造方法	H47.7.7	西岡聡史仙波健伊藤彰浩	第一工業製薬㈱
23	H25.1.25 H28.7.15	特許 5968799	架橋ポリオレフィン系発泡体の製造方法	H45.1.25	仙波健伊藤彰浩	三和化工㈱
24	H24.3.8 H28.9.30	特許 6012206	変性セルロースナノファイバー及び変性セルロースナノファイバーを含む樹脂組成物	H44.3.8	仙波健伊藤彰浩上坂貴宏北川和男	DIC㈱三菱ケミカル㈱星光PMC㈱京都大学
25	H24.11.5 H28.9.30	特許 6012751	ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法	H44.11.5	仙波健伊藤彰浩北川和男	YKK（株）
26	H25.2.26 H28.10.26	CN201380024251.7	変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法，及びその樹脂組成物	H45.2.25	仙波健北川和男	DIC㈱星光PMC㈱京都大学
27	H24.11.5 H28.11.29	US9,505,915	ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法	H44.11.5	仙波健伊藤彰浩北川和男	YKK（株）
28	H25.2.26 H28.12.6	US9,512,304	変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法，及びその樹脂組成物	H45.2.26	仙波健北川和男	DIC㈱星光PMC㈱京都大学
29	H28.4.11 H29.1.20	特許 6077193	シリコン微粉末の製造方法，及び窒化シリコン微粉末の製造方法	H48.4.11	高石大吾稲田博文荒川裕也門野純一郎南秀明	㈱TKX
30	H27.12.9 H29.2.7	特許 6091589	化学修飾セルロースナノファイバー及び熱可塑性樹脂を含有する繊維強化樹脂組成物	H47.12.9	仙波健伊藤彰浩上坂貴宏北川和男	星光PMC㈱京都大学王子Ｈ(株) 日本製紙㈱

著作権

No.	名称	創作活動を行った者	備考
1	DXFファイル変換ソフトウェア	岩崎　健太	プログラム著作権
2	新Windows版CGSIIソフトウェア　応用パック	本田元志岩崎健太	プログラム著作権
3	3DCAD用着物マッピングデータ作成補助ソフトウェア	本田元志岩崎健太	プログラム著作権

商標

No.	出願年月日	登録番号	商標	区分	指定商品指定役務
No.	登録年月日	登録番号	商標	区分	指定商品指定役務
1	H27. 　12.22 H28. 　5.20	商標 5851946		第７類	有機ＥＬディスプレイ製造装置用メタルマスク，金属加工機械器具，化学機械器具，食料加工用又は飲料加工用の機械器具，ガラス器製造機械，ガラス用金型，プラスチック加工機械器具，プラスチック用金型，半導体製造装置，機械要素（陸上の乗物用のものを除く。），機械用歯車，ばね（機械部品）
2	H27. 　12.22 H28. 　5.20	商標 5851947		第７類	有機ＥＬディスプレイ製造装置用メタルマスク，金属加工機械器具，化学機械器具，食料加工用又は飲料加工用の機械器具，ガラス器製造機械，ガラス用金型，プラスチック加工機械器具，プラスチック用金型，半導体製造装置，機械要素（陸上の乗物用のものを除く。），機械用歯車，ばね（機械部品）
3	H28. 　3.22 H28. 　11.11	商標 5896422		第9類	電気通信機械器具用ディスプレイ装置及びその部品，電子応用機械器具用ディスプレイ装置及びその部品，電子計算機用ディスプレイ装置及びその部品，電気通信機械器具及びその部品，電子応用機械器具及びその部品
4	H28. 　3.22 H28. 　11.11	商標 5896423		第9類	電気通信機械器具用ディスプレイ装置及びその部品，電子応用機械器具用ディスプレイ装置及びその部品，電子計算機用ディスプレイ装置及びその部品，電気通信機械器具及びその部品，電子応用機械器具及びその部品
5	H28. 　3.28 H28. 　12.16	台湾商標1814054		第7類第9類	（第7類）金属加工機械，化学機械，食料加工機械，飲料加工機械，食品用フィルター，ガラス工業用機械，ガラス工業用金型（機械部品），プラスチック工業用機械，プラスチック工業用金型（機械部品），半導体製造機，軸受（ベアリング），軸継手，伝動機，動力伝動用ベルト，緩衝器，モータの制動器，機器用バルブ，機械用歯車，ばね（機械部品）（第9類）有機ＥＬディスプレイ製造装置用メタルマスク，電気通信機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク，電子応用機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク，電子計算機用ディスプレイ装置用メタルマスク，電気通信機械器具用ディスプレイ装置，電子応用機械器具用ディスプレイ装置，電子計算機用ディスプレイ装置，プリント基板製造用メタルマスク，電子基板製造用メタルマスク，電気通信機械器具，コンピュータハードウェア，コンピュータソフトウェア，コンピュータプログラム，半導体素子，半導体製造用メタルマスク
6	H28. 　3.28 H28. 　12.16	台湾商標1814055		第7類第9類	（第7類）金属加工機械，化学機械，食料加工機械，飲料加工機械，食品用フィルター，ガラス工業用機械，ガラス工業用金型（機械部品），プラスチック工業用機械，プラスチック工業用金型（機械部品），半導体製造機，軸受（ベアリング），軸継手，伝動機，動力伝動用ベルト，緩衝器，モータの制動器，機器用バルブ，機械用歯車，ばね（機械部品）（第9類）有機ＥＬディスプレイ製造装置用メタルマスク，電気通信機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク，電子応用機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク，電子計算機用ディスプレイ装置用メタルマスク，電気通信機械器具用ディスプレイ装置，電子応用機械器具用ディスプレイ装置，電子計算機用ディスプレイ装置，プリント基板製造用メタルマスク，電子基板製造用メタルマスク，電気通信機械器具，コンピュータハードウェア，コンピュータソフトウェア，コンピュータプログラム，半導体素子，半導体製造用メタルマスク