地方独立行政法人 京都市産業技術研究所
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知的財産権

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特許

No.出願年月日登録番号発明の名称存続期間満了日産技研
発明者
産技研以外

特許権利者
登録年月日
1 H11.4
H15.8
特許
3456635
球状炭化物鋳鉄 H31.4 西内 滋典 ㈱三共合金鋳造所
西内 滋典
㈱岡本
川野 周子
2 H13.7
H17.8
特許
3710053
ステンレス球状炭化物鋳鉄材料 H33.7 西内 滋典 ㈱三共合金鋳造所
㈱岡本
西内 滋典
川野 周子
山本 悟
(地独)大阪産業技術研究所
3 H16.11
H22.10
特許
4605364
耐熱性架橋ポリエチレン系樹脂発泡体及びその成形方法 H36.11 仙波  健
北川 和男
三和化工㈱
ポリプラスチックス㈱
仙波 健
北川 和男
4 H18.3
H23.11
特許
4865372
電子写真捺染方法 H38.3

北尾 好隆
早水 督

㈱リコー
5 H18.2
H22.12
特許
4644610
等電点電気泳動装置 H38.2 山本 佳宏
廣岡 青央
山本 佳宏
廣岡 青央
遠藤 真
東洋紡㈱
6 H18.2
H20.10
特許
4195039
検体の前処理方法および試薬 H38.2 山本 佳宏
廣岡 青央
辻本善之
山本佳宏
廣岡 青央
東洋紡㈱
7 H18.4
H24.8
特許
5073222
炭素繊維モノフィラメント製シートとその用途 H38.4 北川 和男 ㈲フクオカ機業
㈱財木
北川 和男
8 H19.5
H24.7
特許
5030667
ミクロフィブリル化セルロース複合樹脂及びその製造方法 H39.5 北川 和男 京都大学
9 H20.3
H24.7
特許
5047023
ISFETを用いるATPアーゼ活性の計測方法並びに計測システム H40.3 山本 佳宏
廣岡 青央
バイオエックス㈱
山本 佳宏
廣岡 青央
10 H21.6
H25.2
特許
5196444
無アルカリガラスを用いたセラミックス材料およびセラミックス構造体の製造方法 H41.6 佐藤 昌利
高石 大吾
稲田 博文
高石 大吾
佐藤 昌利
稲田 博文
11 H22.2
H26.2
特許
5478292
高硬度及び低熱膨張係数を有する鉄ーニッケル合金めっき皮膜の製造方法 H42.2 永山 富男
中村 俊博
山本 貴代
永山 富男
中村 俊博
山本 貴代
奥野製薬工業㈱
12 H22.1
H26.2
特許
5485717
炭素繊維と絹繊維の複合繊維織物及びその製造方法 H42.1 末沢 伸夫
本田 元志
廣澤 覚
浜中 裕
末沢 伸夫
本田 元志
廣澤 覚
浜中 裕
㈲フクオカ機業
13 H25.2
H26.3
特許
5496435
変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法、及びその樹脂組成物 H45.2 仙波 健
北川 和男
京都大学
DIC㈱
三菱ケミカル㈱
星光PMC㈱
14 H21.12
H26.8
US8,798,512 B2 印捺物の製造方法,捺染物の製造方法,印捺装置, 及び, 捺染システム H41.12 早水 督 長瀬産業㈱
早水 督
15 H22.3
H27.2
特許
5699261
ケラチーゼおよびその製造法 H42.3 山本 佳宏
廣岡 青央
高阪 千尋
泊 直宏
和田 潤
渡部 邦彦
佐々木 晃
助野 彰彦
山本 佳宏
廣岡 青央
高阪 千尋
泊 直宏
和田 潤
16 H24.2.14
H27.8.28
特許
5797129
セルロースナノファイバー及び樹脂を含む分散液,並びに樹脂組成物 H44.2.14 上坂 貴宏
伊藤 彰浩
仙波 健
北川 和男
京都大学
DIC㈱
三菱ケミカル㈱
星光PMC㈱
17 H21.2.20
H27.10.16
特許
5823665
めっき浴及びそれを用いためっき方法 H41.2.20 中村 俊博
水谷 泰
メテック(株)
(株)大和化成研究所
18 H24.3.8
H28.1.8
特許
5865128
変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む発泡体 H44.3.8 伊藤 彰浩
仙波 健
北川 和男
DIC㈱
星光PMC㈱
京都大学
19 H22.2.5
H28.2.12
特許
5881274
カチオン性ミクロフィブリル化植物繊維及びその製造方法 H42.2.5 伊藤 彰浩
仙波 健
北川 和男
京都大学
日本製紙㈱
王子ホールディングス㈱
DIC㈱
三菱ケミカル㈱
星光PMC㈱
20 H25.11.1
H28.1.11
TWI
516221
ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法 H45.11.1 伊藤 彰浩
仙波 健
北川 和男
YKK㈱
21 H23.7.21
H28.5.28
特許
5938705
複合ナノ粒子およびその製造方法,釉薬ならびに金属ナノ粒子の製造方法 H43.7.21 田口肇
橋田章三
横山直範
塩見昌平
京都大学
22 H27.7.7
H28.6.24
特許
5954759
樹脂補強用混合物,繊維強化樹脂混合物,並びに,繊維強化樹脂及びその製造方法 H47.7.7 西岡聡史
仙波健
伊藤彰浩
第一工業製薬㈱
23 H25.1.25
H28.7.15
特許
5968799
架橋ポリオレフィン系発泡体の製造方法 H45.1.25 仙波健
伊藤彰浩
三和化工㈱
24 H24.3.8
H28.9.30
特許
6012206
変性セルロースナノファイバー及び変性セルロースナノファイバーを含む樹脂組成物 H44.3.8 仙波健
伊藤彰浩
上坂貴宏
北川和男
DIC㈱
三菱ケミカル㈱
星光PMC㈱
京都大学
25 H24.11.5
H28.9.30
特許
6012751
ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法 H44.11.5 仙波健
伊藤彰浩
北川和男
YKK(株)
26 H25.2.26
H28.10.26
CN201380024251.7 変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法,及びその樹脂組成物 H45.2.25 仙波健
北川和男
DIC㈱
星光PMC㈱
京都大学
27 H24.11.5
H28.11.29
US9,505,915 ファスニング部品及びファスニング部品の製造方法 H44.11.5 仙波健
伊藤彰浩
北川和男
YKK(株)
28 H25.2.26
H28.12.6
US9,512,304 変性ミクロフィブリル化植物繊維を含む樹脂組成物の製造方法,及びその樹脂組成物 H45.2.26 仙波健
北川和男
DIC㈱
星光PMC㈱
京都大学
29 H28.4.11
H29.1.20
特許
6077193
シリコン微粉末の製造方法,及び窒化シリコン微粉末の製造方法 H48.4.11 高石大吾
稲田博文
荒川裕也
門野純一郎
南秀明
㈱TKX
30 H27.12.9
H29.2.7
特許
6091589
化学修飾セルロースナノファイバー及び熱可塑性樹脂を含有する繊維強化樹脂組成物 H47.12.9 仙波健
伊藤彰浩
上坂貴宏
北川和男
星光PMC㈱
京都大学
王子H(株)
日本製紙㈱

著作権

No.名称創作活動を行った者備考
1 DXFファイル変換ソフトウェア 岩崎 健太 プログラム著作権
2 新Windows版CGSIIソフトウェア 応用パック 本田元志
岩崎健太
プログラム著作権
3 3DCAD用着物マッピングデータ作成補助ソフトウェア 本田元志
岩崎健太
プログラム著作権

商標

No.出願年月日登録番号商標区分指定商品
指定役務
登録年月日
1 H27.
 12.22
H28.
 5.20
商標
5851946
keepnex_lo_s.png 第7類 有機ELディスプレイ製造装置用メタルマスク,金属加工機械器具,化学機械器具,食料加工用又は飲料加工用の機械器具,ガラス器製造機械,ガラス用金型,プラスチック加工機械器具,プラスチック用金型,半導体製造装置,機械要素(陸上の乗物用のものを除く。),機械用歯車,ばね(機械部品)
2 H27.
 12.22
H28.
 5.20
商標
5851947
keepnex_s.png 第7類 有機ELディスプレイ製造装置用メタルマスク,金属加工機械器具,化学機械器具,食料加工用又は飲料加工用の機械器具,ガラス器製造機械,ガラス用金型,プラスチック加工機械器具,プラスチック用金型,半導体製造装置,機械要素(陸上の乗物用のものを除く。),機械用歯車,ばね(機械部品)
3 H28.
 3.22
H28.
 11.11
商標
5896422
keepnex_lo_s.png 第9類 電気通信機械器具用ディスプレイ装置及びその部品,電子応用機械器具用ディスプレイ装置及びその部品,電子計算機用ディスプレイ装置及びその部品,電気通信機械器具及びその部品,電子応用機械器具及びその部品
4 H28.
 3.22
H28.
 11.11
商標
5896423
keepnex_s.png 第9類 電気通信機械器具用ディスプレイ装置及びその部品,電子応用機械器具用ディスプレイ装置及びその部品,電子計算機用ディスプレイ装置及びその部品,電気通信機械器具及びその部品,電子応用機械器具及びその部品
5 H28.
 3.28
H28.
 12.16
台湾商標1814054 keepnex_lo_s.png 第7類
第9類
(第7類)金属加工機械,化学機械,食料加工機械,飲料加工機械,食品用フィルター,ガラス工業用機械,ガラス工業用金型(機械部品),プラスチック工業用機械,プラスチック工業用金型(機械部品),半導体製造機,軸受(ベアリング),軸継手,伝動機,動力伝動用ベルト,緩衝器,モータの制動器,機器用バルブ,機械用歯車,ばね(機械部品)
(第9類)有機ELディスプレイ製造装置用メタルマスク,電気通信機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク,電子応用機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク,電子計算機用ディスプレイ装置用メタルマスク,電気通信機械器具用ディスプレイ装置,電子応用機械器具用ディスプレイ装置,電子計算機用ディスプレイ装置,プリント基板製造用メタルマスク,電子基板製造用メタルマスク,電気通信機械器具,コンピュータハードウェア,コンピュータソフトウェア,コンピュータプログラム,半導体素子,半導体製造用メタルマスク
6 H28.
 3.28
H28.
 12.16
台湾商標1814055 keepnex_s.png 第7類
第9類
(第7類)金属加工機械,化学機械,食料加工機械,飲料加工機械,食品用フィルター,ガラス工業用機械,ガラス工業用金型(機械部品),プラスチック工業用機械,プラスチック工業用金型(機械部品),半導体製造機,軸受(ベアリング),軸継手,伝動機,動力伝動用ベルト,緩衝器,モータの制動器,機器用バルブ,機械用歯車,ばね(機械部品)
(第9類)有機ELディスプレイ製造装置用メタルマスク,電気通信機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク,電子応用機械器具用ディスプレイ装置用メタルマスク,電子計算機用ディスプレイ装置用メタルマスク,電気通信機械器具用ディスプレイ装置,電子応用機械器具用ディスプレイ装置,電子計算機用ディスプレイ装置,プリント基板製造用メタルマスク,電子基板製造用メタルマスク,電気通信機械器具,コンピュータハードウェア,コンピュータソフトウェア,コンピュータプログラム,半導体素子,半導体製造用メタルマスク