地方独立行政法人 京都市産業技術研究所
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研究成果

めっき-陽極酸化法によるナノ多孔質スピネルフェライト膜の生成と酸素還元・酸素発生電極特性

研究論文 表面処理
担当者 表面処理チーム  紺野 祥岐,永山 富男,山本 貴代,大藏 要,中村 俊博
研究開始時期及び
終了時期
平成31年4月~令和2年3月
要旨  安価で大量生産に適した「めっき-陽極酸化法」により,ナノ多孔質スピネルフェライト膜(MxFe3-xO4,M=Ni,Co)を作製し,その酸素還元反応・酸素発生反応(ORR・OER)用電極としての特性の評価を行った。Fe-14at%Ni及びFe-16at%Coめっき膜を成膜し,これらを陽極酸化及びポスト熱処理することで,直径50 nm以下のポアを有する多孔質スピネルフェライト膜を得た。これらの試料に対し,回転リングディスク電極(RRDE)を用いて,アルカリ水溶液中におけるORR・OER特性を評価したところ,Fe-Coめっき試料上に作製した多孔質CoxFe3-xO4膜が,ORRとOERの・・・・(以下pdf参照)
まとめ  本研究では,Fe-Ni及びFe-Co合金めっき膜を作製し,これを陽極酸化,及びポスト熱処理することによって,ナノ多孔質構造を有するスピネルフェライト膜を作製し,そのORR・OER電極としての特性をRRDE,及びRDEを用いて評価した。その結果,以下のことが分かった。  1.めっき法により作製したFe-M(M=Ni,Co)合金めっき膜を陽極酸化,及び不活性雰囲気中でのポスト熱処理することによって,スピネルフェライトMFe3-xO4(M=Ni,Co)からなるナノ多孔質膜を作製することができる。  2.ナノ多孔質スピネルフェライト膜の形態は,めっき膜の組成・・・・(以下pdf参照)
研究種別 研究論文
備考  

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