地方独立行政法人 京都市産業技術研究所
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設備利用

炉関連

高周波誘導加熱遠心鋳造装置 アルゴン雰囲気又は大気雰囲気で合金を高周波誘導加熱熔解し,遠心力で熔けた合金を鋳込む装置です。
高周波誘導加熱真空溶解炉 真空中,アルゴン雰囲気又は大気中で合金を高周波誘導加熱熔解し,コイル及びるつぼを回転させ,熔けた合金を鋳型に鋳込む装置です。
アーク溶解炉 強力なアークで金属を熔かし合金を作製する装置で,超高融点金属の熔解が可能です。水冷銅型のため,るつぼからの汚染がありません。さらに超高純度Ar雰囲気なので酸化されることなく高純度合金が得られます。
放電プラズマ焼結装置  上下方向から加圧しながら大電流を流すことにより,通電初期には放電が発生し,中期・後期には通電による自己発熱により焼結を促進することができます。
 従来より低温・短時間で透光性セラミックスや非酸化物セラミックスの焼結体が得られます。金属系材料の焼結や異種材料の接合にも利用できます。
多種非酸化物セラミックス対応焼成炉システム 窒素(2000℃),アルゴン(2400℃)及び真空(2000℃)中での,加熱・焼成を行う電気炉です。通常の大気中では作製できない非酸化物系セラミックスである窒化アルミ,窒化ケイ素,炭化ケイ素等の先進セラミックスや透光性セラミックスなどの高機能なセラミックスを作製することができます。
卓上マッフル炉 分析・測定試料の作製,熱処理加工を行う装置です。