その他機器・施設

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設備紹介
利用できる設備
その他機器・施設

講義室B	面積：約76m² 収容可能人数：24名(数名分の追加可能) 《利用可能な設備》ホワイトボードプロジェクタ用小型スクリーン大型モニタ（50，60inch：要予約）マイクなし
講義室A	面積：約56m² 収容可能人数：24名(追加不可) 《利用可能な設備》ホワイトボード大型モニタ（50，60inch：要予約）マイクなし収容可能人数　最大24名(追加不可)
小ホール	面積：約52m² 収容可能人数：24名(追加不可) ホワイトボード（要予約）大型モニタ（50，60inch：要予約）マイクなし
大ホール	面積：約248m² 収容可能人数：約90人（椅子のみ追加可能）《利用可能な設備》大型プロジェクタ1台（PCは各自ご準備ください）マイク（ワイヤレス2本，有線1本）大型モニタ（60inch：要予約，メインプロジェクタのサブモニタとしても利用可能） 1/3ごとに区切って利用可能（間仕切りあり）
超低温フリーザー	分析試料の微粉砕を行う装置です。
高速湿式試料切断機	試料を分析可能な形状に切り出す装置です。
マイクロ波加熱分解装置システム	固体試料をテフロン製密閉容器で分解し，水溶液化する分析前処理装置です。
密閉高温高圧水熱反応処理装置	高温高圧水を用いた分析前処理装置です。
スパークアブレーション固体サンプリング装置	試料をスパーク放電によりエアロゾル化し，アルゴン気流によりCID高周波プラズマ発光分析装置へ直接導入する分析前処理装置です。